這是1981年由美國(guó)多弧(Multi-Arc)公司開發(fā)的最新離子鍍膜技術(shù)。主要特點(diǎn)是利用在真空條件下把性能優(yōu)異的太空金屬鈦(我國(guó)有豐富資源)做成靶，用電弧方式直接產(chǎn)生等離子體，并在真空爐中通入高純氮?dú)猓光侂x子和氮離子在電場(chǎng)作用下直接“打入”由各種基材制成的產(chǎn)品上，形成一層厚度約1微米結(jié)合力很強(qiáng)的氮化鈦鍍層，不僅外觀金光閃閃而且耐磨耐蝕性能優(yōu)異。從而大大提高該產(chǎn)品的使用價(jià)值與經(jīng)濟(jì)價(jià)值，例如SHARP錄相機(jī)的鈦表層磁鼓就是一例。這是一項(xiàng)可以在各種基材的產(chǎn)品上鍍上特殊性能的化合物薄膜的新技術(shù)，有廣泛應(yīng)用前景。真空電弧離子鍍有以下同個(gè)特點(diǎn)：

　　1、各種金屬都可以制成靶在電弧作用下形成等離子體，同時(shí)在真空爐中通入不同氣體從而開拓各種特殊性能的復(fù)合鍍層、高級(jí)裝飾鍍層。

　　2、由于等離子體的繞射性好因而不論產(chǎn)品外形如何都能涂上均勻的膜層，因?yàn)橐噪x子方式在電場(chǎng)作用下直接“打入”產(chǎn)品表層，故結(jié)合力特別強(qiáng)。

　　3、可以實(shí)現(xiàn)低溫條件下的離子鍍(小于200℃)故型料制品的電鍍件也能采用此技術(shù)增值。